我们都知道，金属标牌可以做很多丰富多彩的颜色，或者几种颜色的组合搭配。经常会用到真空镀这种工艺，下面给大家介绍下这些颜色是怎么镀上去的，方便感兴趣的朋友了解!文章有些长，建议收藏下来慢慢看。

　　一、PVD镀膜是什么

　　PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

　　PVD镀膜技术可分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。对应三大类PVD技术，对应的真空镀膜设备包括真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。

　　近十年来，真空离子镀技术发展最快，已成为最先进的表表面处理方法之一。所谓PVD镀膜，是指真空离子镀膜;PVD涂布机通常指真空离子涂布机。

　　PVD镀膜(离子镀膜)技术的具体原理是，在真空条件下，采用低电压大电流的电弧放电技术，通过气体放电蒸发靶材，蒸发的物质和气体被电离，蒸发的物质及其反应产物通过电场的加速沉积在工件上。采用PVD镀膜技术沉积的薄膜具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、良好的耐蚀性和化学稳定性等特点，使用寿命更长。同时，薄膜层可以大大改善工件的外观和装饰性能。

　　二、PVD真空镀膜可以镀出何种颜色

　　PVD镀膜设备可以镀出来的膜层颜色种类也有很多，装饰效果更实用美观.PVD镀膜设备目前可以加工的膜层的颜色有玫瑰金 、蓝色 、彩色、黑色、枪色 、钛灰色 、炫彩 、仿金色等。在镀膜过程中膜层颜色是通过控制不同靶材和不同气体的搭配，在真空环境下沉积到工件上的一层膜，形成各式各样的颜色膜层.PVD镀膜设备镀出膜层结束以后，可以用颜色测量仪对膜层颜色进行测量，才能确定PVD镀膜设备镀出的颜色是否满足要求。PVD镀膜设备在镀膜过程中也不会产生有毒或无污染的环保型物质。

　　三、PVD真空镀膜技术历史起源

　　真空涂层技术在上世纪六十年代オ出现，将CVD(化学气相沉积)技术应用于使硬质合金刀具上。由于该技术需在高温下进行。到了上世纪七十年代末，开始出现因：

　　(1)其在真空密封的腔体内成膜，几乎无任何环境污染问题，有利于环保;

　　(2)其能得到光亮、华贵的表面，在颜色上，成熟的有七彩色、银色、透明色、金黄色、黑色、以及由金黄色到黑色之间的任何一种颜色，能够满足装饰性的各种需要;

　　(3)可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层，应用在工装、模具上面，可以使寿命成倍提高，较好地实现了低成本、高收益的效果;

　　(4)此外，PVD涂层技术具有低温、高能两个特点，几乎可以在任何基材上成膜，因此，应用范围十分广阔，其发展神速也就不足为奇。

　　真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD(物理化学气相沉积)、MI-CVD(中温化学气相沉积)等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。目前较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。多弧镀的不足之处是，在用传统的DC电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法増厚涂层，再利用多弧镀达到稳定的表面涂层颜色的新方法。

　　四、PVD真空镀膜技术原理

　　PVD( Physical Vapor Deposition)即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀;通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜。

　　真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子東轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用较早的技术。

　　溅射镀膜基本原理：充(Ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氮离子(Ar)，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在10-2pa~10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。

　　离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。